光刻機的核心指標為套刻精度、分辨率和產(chǎn)率，工件臺的運動平均偏差決定了光刻機套刻精度，運動標準偏差直接影響光刻機分辨率，運動速度決定了光刻機的產(chǎn)率。

工件臺、投影物鏡、光源是光刻機的三大核心子系統(tǒng)。其中，工件臺是承載硅片完成光刻過程中一系列超精密動作的運動系統(tǒng)，由吸盤模塊、驅(qū)動模塊、導向模塊、位置測量模塊和運動控制模塊組成。雙工件臺技術已成為EUV、ArFi等主流光刻機的選擇。光刻機雙工件臺的性能在光刻機對晶圓進行光刻時起到?jīng)Q定性影響。

雙工件臺，即在一臺光刻機內(nèi)有兩個承載晶圓的工件臺。兩個工件臺相互獨立，但同時運行，一個工件臺上的晶圓做曝光時，另一個工件臺對晶圓做測量等曝光前的準備工作。當曝光完成之后，兩個工件臺交換位置和職能，如此循環(huán)往復實現(xiàn)光刻機的高產(chǎn)能。

納米級精密運動及測控是光刻機雙工件臺的核心技術之一。

定位精度達微米或納米級別的定位與傳輸運動模組，其主要功能是承載晶圓按照指定的運動軌跡做高速超精密運動并完成一系列曝光所需動作，包括上下片、對準、晶圓面型測量和曝光等，實現(xiàn)精密運動或定位。

精密運動系統(tǒng)的性能決定整機設備的加工或測量精度，其速度和加速度則決定了整機設備的生產(chǎn)效率。定位精度達微米或納米級別的定位與傳輸運動模組可廣泛應用于半導體檢測、PCB板曝光、LCD和OLED面板檢測、生物檢測、激光加工等行業(yè)領域。